前裝式真空工藝快速加熱爐 UNITEMP尤尼坦

前裝式真空工藝快速加熱爐 UNITEMP尤尼坦 RTP-100

前裝式真空工藝快速加熱爐 UNITEMP尤尼坦 RTP-100

產品特點

在加熱區域的頂部和底部配備IR（紅外線）型加熱器，最高溫度可達1200℃，并可高速升溫150K/秒。采用氮氣吹掃方式的冷卻方式，降溫速度高達190K/min。（1200至400℃，此后25K/min。）
觸摸屏用于輪廓程序控制。
除了創建溫度控制、氣體流量 (MFC)、真空控制等配置文件程序外，您還可以保存過程數據。
它可以加熱最大100x100mm或Φ100mm的物體。

盡管桌面尺寸可實現最高溫度1200℃的真空工藝快速加熱爐。

兼容氮氣吹掃、氧氣吹掃、合成氣（氫氣+氮氣）吹掃等。

由于工作區域是氣體保護的，因此可用于存在污染問題的工藝或其他關鍵工藝。

加熱由頂部和底部的 24 個 IR（紅外線）加熱器進行，可實現準確、快速的加熱。

與適當的真空泵結合，可實現高達0.1 Pa (10 -3 hPa) 的真空環境。

兼容氮氣吹掃法的溫度下降

標準配備觸摸屏顯示器。通過觸摸操作輕松操作

主機上最多可注冊50個50段（行）的溫度控制程序。

產品規格

RTP-100 前裝式
真空工藝快速退火爐
設備尺寸：505 x 505 x 570 mm (WxDxH)
設備重量：約 55 kg